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關于鋁硅合金靶材性能,制備方法及其應用介紹

日期:2022-07-24 瀏覽:360

鋁硅靶材


鋁硅合金靶材是一種用于濺射鍍膜的材料,廣泛應用于半導體、光學、電子等領域。鋁硅合金靶材的主要成分是鋁和硅,具有良好的導電性、導熱性、耐熱性和耐核輻射性。

鋁硅靶材特征
鋁硅靶材形狀:平面靶 異型定制
鋁硅靶材純度:3N,5N
鋁硅靶材尺寸:按圖紙加工或者定制
我們還可以提供鋁硅合金塊、鋁硅合金錠、鋁硅合金粉等

一種鋁硅合金靶材的制備方法

鋁硅靶材成分表


將鋁硅鑄錠依次在鋁硅鑄錠的長度方向、鋁硅鑄錠的寬度方向和鋁硅鑄錠的厚度方向進行鍛壓,鍛壓包括依次進行的墩粗和拔長,墩粗的變形量為鋁硅鑄錠墩粗前的對應方向上長度的40-60%,拔長的變形量為鋁硅鑄錠拔長前的對應方向上長度的100-120%,鍛壓次數為9-12次,每次鍛壓后進行2-5min水冷,鍛壓結束后得到鍛后靶坯;

第一熱處理,熱處理的升溫速率為8-12℃/min、溫度為300-350℃、時間為10-30min,之后進行水冷。

軋制,軋制的參數為5-10mm/道次,軋制的總變形量為鍛后靶坯的70-90%。

第二熱處理,第二熱處理的升溫速率為8-12℃/min、溫度為350-400℃,時間為10-30min,之后進行水冷。后進行機加工得到鋁硅靶材。

該方法制備的鋁硅靶材,優(yōu)化了內部晶粒組織,制備的靶材晶粒細小均勻,將其平均晶粒尺寸控制在95μm以下,尤其可以控制在58μm以下,且晶粒尺寸變化范圍在25μm之內;將靶材用于濺射鍍膜時可提高濺射速率和成膜均勻性及致密性。

鋁硅合金靶材應用
半導體關聯(lián)靶材:鋁硅合金靶材在半導體器件中用作電極、布線薄膜等。
存儲器電極薄膜:鋁硅合金靶材可用于制造存儲器電極薄膜。
粘附薄膜:鋁硅合金靶材在粘附薄膜中也有應用。
電容器絕緣膜薄膜:鋁硅合金靶材可用于制造電容器絕緣膜薄膜。

鋁硅合金應用
航空和交通領域:鋁硅合金因其輕質和高強度的特性,被廣泛用于航空航天器的結構件制造。在交通運輸領域,尤其是在汽車行業(yè),這種合金用于制造發(fā)動機部件、散熱器以及車身結構等,以提高燃油效率并降低排放。
建筑行業(yè):在建筑行業(yè),鋁硅合金用于制造門窗框架、幕墻材料等,這些應用利用了合金的耐腐蝕性和良好的機械性能。
電子產品:鋁硅合金也用于電子產品中的散熱器,因為它具有良好的熱導性,可以幫助散發(fā)電子設備產生的熱量。
鋼鐵冶煉:在鋼鐵冶煉過程中,硅鋁合金用作脫氧劑,有助于提高鋼的質量。它的使用可以降低煉鋼過程中的燒損,并且與純鋁相比,硅鋁合金的利用率更高。
制造復雜鑄件:鋁硅合金適用于生產形狀復雜的中低強度鑄件,如蓋板、電機殼、托架等。此外,它還可以作為釬焊焊料,用于連接金屬部件。


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